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知的財産保護及び「知識産権侵害及び模倣品の製造販売撲滅プロジェクト」を強化するための中国政府のニーズに応じて、中国特許法第4次改正の討論会が開かれました。弊所代理人が国家知識産権局の開催した当該討論会に参加しました。
今回の討論会は下記2点に焦点が当てられました。
一つは、知的財産への保護の強化であり、悪意による権利侵害行為に対した懲罰的な賠償および厳重な権利侵害行為に対した刑事罰の二方面で表わされます。これに対し、討論会に参加した専門家達は懲罰的な賠償制度に賛同し、つまり、悪意による権利侵害行為に対して侵害所得の1～3倍の賠償を課することに賛同しました。ただし、権利侵害行為に対した刑事罰について専門家達は反対意見を表明しました。
討論の2つ目の焦点は行政機関の制裁権限を強化することであり、つまり、特許権侵害及び特許冒認行為への各地方政府知的財産管理部署の制裁権限を強化します。行政機関の市場への関与が弱まる国の趨勢の中、この改正が最終的に採用される可能性は低いと専門家達は考えています。
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